湖南大學（來源：湖南新聞聯播）
發布時間：2020-01-13
2019年1月6日湖南衛視新聞聯播播出湖南大學王雙印教授領銜的催化劑缺陷化學研究項目目前處于全球領先水平，目前該項技術已經進入工廠測試驗證階段。在新聞中播放的王雙印教授的實驗室中出現了合肥科晶的設備身影：
點擊查看完整視頻（第10：07分出現）
視頻中出現了合肥科晶的加熱爐以及PECVD系統。目前公司共擁有十幾種不同型號的PECVD系統，客戶可根據需求進行選擇。同時公司亦接受非標產品方案的定制，公司的模塊化思想可方便客戶的搭建需求，更容易實現客戶的定制方案。
視頻中的科晶設備：
(1)PECVD系統
型號：OTF-1200X-50S-PE-SL
部分參數：連續工作最高溫度：1000℃；尺寸：1500mm L*600mm W*1200mm H
(點擊圖片或鏈接了解更多詳情)（http://www.rs580.com/product/16689.html）
(2)箱式加熱爐
型號：KSL-1200X
部分參數：爐腔容積：7.2L；最高加熱溫度：1200℃；加熱爐尺寸：440mm L*530mm W*530mm H
(點擊圖片或鏈接了解更多詳情)（http://www.rs580.com/product/16847.html）
更多PECVD系統：
(點擊圖片或鏈接了解更多詳情)（http://www.rs580.com/product/15840/list.html）
等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）技術：
等離子體增強化學氣相沉積（Plasma?Enhanced?Chemical?Vapor?Deposition，簡稱PECVD）技術是借助于輝光放電等離子體使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。由于PECVD技術是通過反應氣體放電來制備薄膜的，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式。
一般說來,采用PECVD技術制備薄膜材料時，薄膜的生長主要包含以下三個基本過程：
首先，在非平衡等離子體中，電子與反應氣體發生初級反應，使得反應氣體發生分解，形成離子和活性基團的混合物；
其二，各種活性基團向薄膜生長表面和管壁擴散輸運，同時發生各反應物之間的次級反應；
最后，到達生長表面的各種初級反應和次級反應產物被吸附并與表面發生反應，同時伴隨有氣相分子物的再放出。
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歡迎您來到科晶開放實驗室參觀與親自試用
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