| 產品特點 | ·水冷高真空腔體，真空度可達10-4Pa ·水冷銅坩堝，可按照客戶要求制作成各種形狀 ·起弧鎢針與樣品距離可調節(jié)（電機驅動），最大距離100mm ·一個樣品翻轉桿，可在不破壞真空&氣氛環(huán)境下反轉樣品 ·吸鑄功能，電磁攪拌功能：對高溫熔融態(tài)的金屬樣品進行攪拌 |
| 供電要求 | ·輸入：380VAC，3相，65KW，50/60Hz |
| 熔煉腔體 | ·高真空水冷腔體，材質為304不銹鋼 ·真空度：5×10-4Pa(采用1200L/s的分子泵系統(tǒng)） ·泄露率：5.0×10-5Pa.m3/s ·腔體尺寸：Φ400×350mm ·前門一個觀察窗口，用于觀察樣品熔煉過程 ·可選：CF法蘭接口的2L儲氣罐，用于連接氣體分析儀 ·一個樣品翻轉桿，可在不破壞真空&氣氛環(huán)境下，翻轉樣品
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| 水冷銅坩堝 | ·2種規(guī)格的水冷銅可供選擇： (1) 單工位水冷銅坩堝最大熔煉量500g(不銹鋼密度計算），圖1（直徑120×深度20mm） (2) 5工位水冷銅坩堝，含真空吸鑄和電磁攪拌工位（圖2） 工位1：Φ80×35mm,帶有電磁攪拌功能 工位2：Φ65×25mm 工位3：Φ65×25mm 工位4：Φ50×25mm用于熔Ti或Zr，吸腔體中的微量氧氣 工位5：Φ60×20mm,帶真空吸鑄功能，吸鑄模具Φ8mm×70mm ·注意：熔煉樣品量，是按照SS304不銹鋼密度計算 ·可更具客戶要求定制水冷銅坩堝
圖1 圖2 圖3
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| 鎢電極&電源 | ·鎢電極直徑: ?12 mm ·鎢電極可移動行程 100 mm ·最大電流連續(xù)操作時間: 30 min
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| 真空系統(tǒng) | ·安裝有一個抽速為1200L/s的分子泵系統(tǒng)在設備上 ·真空度：5.0×10-4Pa |
| 循環(huán)水冷機 | ·配有一臺循環(huán)水冷機 流量58L/min,冷卻能力：17KBTU/hr ·溫度控制：5~30℃ ·制冷劑：R410-a |
| 產品尺寸 | ·800mm×1200mm×1800mm
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| 工作氣體 | ·高純Ar氣，純度5N（＞99.999%）（設備中不包含） ·5% H2+ 95% Ar可能需要，用于在熔煉過程中防止樣品氧化 ·可能需要高出Ti樣品，熔高純Ti可吸收腔體中微量的氧 ·氣瓶上必須安裝雙級減壓閥，將輸出氣體壓力減小到0.02MPa |
| 質保 | ·一年質保期，終生維護 |
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皖公網安備 34012302000974號
